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至于第三点，那就是洁净室，洁净等级要求更高，无尘车间内的空气要比外面干净10000倍以上。

第四，则是高数值孔径的反射镜，要求表面非常的平整。

如果放大到华国那么大，表面的起伏度也要低于一根头发丝。

这几个难点，是研发euv光刻机的拦路虎。

其中，光源这些，要靠科宇光源获得突破；反射镜，要靠欧普光电。

此外，就是规避专利了。

整个团队，已经划分了8个组，目前主要是进行理论设计。

在这一方面，江成一个组一个组地进行了交流，也听了下大家的一些想法。

和听他们自我介绍不一样，江成这会儿谈的很仔细，对大家的一些好的想法，进行了深入地探讨，一边交流，一边模拟。

对于这些研发工程师来说，江成又一次被神话了。

不仅哪一块都懂，还只是听了听大家介绍，就把大部分（其实是全部）人都记下了。

这种记忆力，真的是太过于妖孽。

当然这一次交流，也足足花了江成7天的时间，这才把整个研发方向，初步有了一个想法。

那么首先，就是如果设计发出13.5n光。

阿斯麦耳采用的是轰击锡滴，但江成选择的是另一个路径。

那就是利用两束激光互相轰击产出极紫外光。

当然，这还只是一个设想，但江成通过体内模拟实验室，认为这是一个好的方向，为此初步选定了该方案。

至于这些激光的要求，可以根据理论设计的参数，同科宇光源具体对接沟通，让他们生产研制即可。

其次，就是反射镜。

和duv镜头不一样的是，euv光刻机中，更多是需要反射。

原因其实很简单，那就是13.5n光波长，是无法透过目前用的透镜材料，也找不到那么高透过率的材料制造透镜。

因此只能选择反射。

江成想着，又得让冼珠峰用心磨镜子喽。

此外，还有更高精度的双工件台、测量、校准等系统，都是非常不容易实现的。

不过好在，193n浸没式光刻机已经在江成的带领下实现了国产，这对于整个光刻机产业链的提升是非常大的。

“江董，您一来，大家心里就稳了，知道要来做什么了。”楼向晚笑着说道，“之前招来了之后，大家都不知道做什么，有些迷茫，讨论是很多，但一直没有形成有效的方法。”

原本他还是不知道江成为什么要花这么多时间，一个个小组地交流过去，但现在，他明白了。

在江成的心里，通过这次专门的交流，已经为自己的euv光刻机设计描绘了一个蓝图。

大概的设计草图。

江成有些累地揉着眼睛边上的穴道，叹了口气，“你对这个技术还是不够熟悉，我打算把连广浩也调过来，让他继续带队研发。”

“那敢情好，我做人事管理这些倒顺手，真让我钻研技术，还是没这个本事。”楼向晚挠挠头，因为在魔都微，他还是花了不少时间学习相关的知识。

但毕竟不是学这个专业的，也不像江成这种挂逼，只能说是懂一点，但不算太懂。